光刻掩膜版，奔向12英寸

在半导体制造中，最近几十年我们看到了晶体管架构从平面FinFET走向GAA，工艺节点不断缩小，来到2nm以下，光刻光源从436nm(g-line)、365nm(i-line)、248nm(KrF)、193nm(ArF)一路跨越至13.5nm(EUV)。