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光刻掩膜版，奔向12英寸
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AI 综述
【Tushare 财经通讯】在半导体制造中，最近几十年我们看到了晶体管架构从平面FinFET走向GAA，工艺节点不断缩小，来到2nm以下，光刻光源从436nm(g-line)、365nm(i-line)、248nm(KrF)、193nm(ArF)一路跨越至13.5nm(EUV)。
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最新进展10月4日 09:17
最新报道（Tushare 财经通讯）：光刻掩膜版，奔向12英寸报道时间线
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10月4日
- Tushare 财经通讯精选光刻掩膜版，奔向12英寸
在半导体制造中，最近几十年我们看到了晶体管架构从平面FinFET走向GAA，工艺节点不断缩小，来到2nm以下，光刻光源从436nm(g-line)、365nm(i-line)、248nm(KrF)、193nm(ArF)一路跨越至13.5nm(EUV)。
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